複合レイヤーマスク

複合マスクについて

Affinity Photo 2はベクトルベースの結合と非破壊的複合に加えて、複合マスクもサポートしています。これは、同じブール演算(追加、型抜き、交差、中マド)を使用する強力なマスキングシステムで、個々のマスクレイヤーを変更せずに、複数のマスクレイヤーに非破壊的に適用されます。

複合マスクを使用すると、複雑なテクスチャの合成と編集を行い、より複雑で多様な複数のマスクを組み合わせることができます。さまざまなマスキングアプローチを使用して合成できるため、柔軟性が大幅に向上します。たとえば、グラデーションマスクレイヤーと描画されたマスクレイヤーを組み合わせることができます。

他のレイヤーと同様に、複合内のマスクレイヤーはオン/オフを切り替えることができます。レイヤースタックの別の位置に移動したり、レイヤープロパティ(不透明度など)を変更したりできます。

空の複合マスクを作成するには:

次のいずれかを行います。

前に選択されたピクセルレイヤーがある場合、複合マスクはそのレイヤーにクリップされます。レイヤーが選択されていない場合は、レイヤースタックの一番上に追加されます。必要に応じて、複合マスクレイヤーを新しい位置にドラッグできます。

複合マスクに既存のマスクレイヤーを追加する:

複合マスクにピクセル選択範囲をマスクとして追加する：

複合マスクモードを変更するには:

複合マスクからマスクレイヤーを解除するには:

次のいずれかを行います。